Formation - Lithographie laser avancée multi-échelles

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Environnement scientifique et technique de la formation

Lumière, nanomatériaux et nanotechnologies

- UMR 7076

RESPONSABLE

Safi JRADI

Maître de conférences

UMR 7076

LIEU

TROYES (10)

ORGANISATION

3 jours
De 3 à 6 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

Alternance de cours théoriques (3 h) et de travaux pratiques (15 h)
En fin de formation, un test d'évaluation d'acquisition des connaissances sera effectué en ligne et une correction collective commentée permettra au stagiaire de se positionner sur l'atteinte des objectifs de la formation.
Un livret récapitulatif du cours sera remis au stagiaire à l'issue de la formation.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1632 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

Nous consulter

2025

Janvier	Février 25089	Mars	Avril
Mai	Juin	Juillet	Août
Sept	Oct	Nov	Déc

OBJECTIFS

Connaître les principes fondamentaux et opératoires de la photolithographie 3D par impression laser directe à l'échelle sub-micrométrique

Acquérir des connaissances fondamentales et appliquées concernant la lithographie par interférences laser et les techniques de nanofabrication associées

Être capable de fabriquer des structures hybrides 3D à grande échelle, nanostructurées à l'aide de colloïdes, en sélectionnant et en combinant les techniques de structuration laser les plus adaptées

PUBLICS

Ingénieurs ou chercheurs des secteurs publics ou privés

Afin d'adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable ICI devra être complété et renvoyé au moment de l'inscription.

Prérequis : connaissances de base en optique / laser (niveau master) et intérêt pour la micro et la nanostructuration

PROGRAMME

1^er jour
- Introduction à la photostructuration (sources, équipements utilisés…)
- Cours théorique sur les technologies d'écriture directe par laser femtoseconde (EDLF) et lithographie interférentielle laser (LIL)
- Étude théorique des techniques associées (fonctionnalisation de surface, dépôt par voie chimique, gravure, croissance chimique, PVD, transfert, etc.)
- Design des structures et paramétrage pour l'EDLF
- Mise en place d'un montage LIL grande échelle

2^ème jour
- Fabrication de structures 3D par EDLF sur photopolymère et étude des techniques associées (dépôt de particules métalliques / fluorescentes)
- Fabrication de structures par LIL et étude des techniques associées

3^ème jour
- Caractérisation des échantillons réalisés : photoluminescence, FLIM, MEB, spectroscopie Raman, micro-extinction, angle de contact, sphère intégrante...
- Validation des acquis de la formation

EQUIPEMENT

Équipements de la plateforme nano'mat pour la nanofabrication (Nanoscribe, Bati de gravure, évaporateurs...) et la caractérisation (AFM, MEB, angle de contact, FLIM, bancs de spectroscopie optique...). Voir le site de la plateforme nano'mat pour une description détaillée des équipements.

INTERVENANTS

S. Jradi, A.-L. Baudrion (maîtres de conférences), G. Lerondel (professeur), J. Beal, S. Kostcheev, A.
Rumyantseva (ingénieurs de recherche), A. Gokarna et A. Gwiazda (ingénieures)

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