L'organisme de formation continue du CNRS
Accueil > La micro-nano technologie : introduction aux procédés

Formation - La micro-nano technologie : introduction aux procédés

Environnement scientifique et technique de la formation

Centre de nanosciences et de nanotechnologies

- UMR 9001
RESPONSABLES

Guillaume AGNUS

Maître de conférences

UMR 9001

Marion WOYTASIK

Maîtresse de conférences

UMR 9001

LIEU

PALAISEAU (91)

ORGANISATION

Formation sur 8 demi-journées
6 séminaires :
- Jeudi 09 janvier (14h - 17h)
- Jeudi 16 janvier (14h - 17h)
- Jeudi 23 janvier (14h - 17h)
- Jeudi 30 janvier (14h - 17h)
- Jeudi 6 février (14h - 17h)
- Jeudi 13 février (14h - 17h)
2 séances de TD/TP :
- Jeudi 6 février (09h - 12h)
- Jeudi 13 février (09h - 12h)

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

Alternance de cours (70 %) et de travaux pratiques (30 %)
Un support papier et un fichier au format PDF seront mis à disposition du stagiaire.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1428 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires ; attestation de formation

DATE DU STAGE

Nous consulter

2025
Février
25086
Mars
25086
Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept Oct Nov Déc
OBJECTIFS
-

Connaître les conditions de travail en salle blanche


-

Acquérir des bases dans différents domaines des micro et nano-technologies : lithographie, gravure, dépôt de couches minces, plasmas

PUBLIC
Toute personne souhaitant mettre en ?uvre des procédés technologiques
PRÉREQUIS
Aucun
PROGRAMME
Environnement salle blanche : contamination et zones à atmosphères contrôlées
- La contamination : définitions / mécanismes
- Salles blanches et filtration des fluides
- Les nettoyages humides : exemples et contamination de surface en procédé

Initiation au vide
- Les gaz et la pression, les pompes, les fuites, le dégazage

Elaboration de couches minces
- PVD, CVD : principes des techniques
- Contraintes, modes de croissance : définition et influence sur les propriétés physiques (adhérence...)

La lithographie optique
- Les résines, leurs paramètres importants : résolution, contraste, sensibilité, courbe de réponse spectrale, tenue à la gravure
- La photolithographie : les différents modes d'insolation, la résolution, les perturbations (diffraction, proximité...)

Les techniques de gravure
- La gravure chimie / physique, la gravure sèche / humide

Tout au long de la formation, des exercices corrigés permettront au stagiaire d'évaluer l'acquisition des connaissances.
INTERVENANTS
J.-R. Coudevylle, S. Guilet (ingénieurs), C. Renard (chercheur), M. Woytasik, G. Agnus (maîtres de conférences) et P. Lecoeur (professeur)