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Formation - Microscopie électronique à balayage (MEB) en science des matériaux

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RESPONSABLES

Cédric LEUVREY

Ingénieur d'études

UMR 7504

Thierry DINTZER

Ingénieur de recherche

UMR 7515

ORGANISATION

16 h
De 4 à 9 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

Alternance de cours (6,5 h) et de travaux pratiques (9,5 h) en sous-groupes de 3 stagiaires maximum avec 1 intervenant par sous-groupe. Tout au long de la formation, des exercices de mise en pratique et des points d'étape permettront au stagiaire d'évaluer son acquisition des connaissances. Un support papier, des fichiers au format PDF et une clé USB seront mis à disposition du stagiaire.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1224 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires. Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

25194 : du mercredi 14/05/2025 au vendredi 16/05/2025 à

2025
Janvier Février Mars Avril
Mai
25194		 Juin Juillet Août
Sept Oct Nov Déc
OBJECTIFS
-

Connaître les principes de la microscopie électronique à balayage en science des matériaux


-

Comprendre la formation de l'image en MEB et les paramétrages de base


-

Savoir choisir les détecteurs adaptés pour former une image


-

Savoir préparer et observer des matériaux simples


-

Savoir interpréter les images en fonction du type d'échantillon et des paramètres d'observation retenus


-

Savoir compléter l'interprétation des images en utilisant la microanalyse X

PUBLICS
Chercheurs, ingénieurs et techniciens amenés à utiliser le MEB ou interpréter des images de MEB pour la science des matériaux

Afin d'adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable ICI devra être complété et renvoyé au moment de l'inscription.
PRÉREQUIS
Connaissances de base en science des matériaux (niveau Bac + 2 minimum)
PROGRAMME
Cours (6,5 h) : principes de fonctionnement du MEB
- Source d'électrons, optique électronique, images par balayage
- Aperçu sur la technologie du vide
- Interactions électrons-matière, électrons rétrodiffusés et secondaires
- Détection des différents signaux et types d'images associées
- Choix des conditions expérimentales et du type d'appareil en fonction des informations recherchées

Travaux pratiques (9,5 h)
- Préparation et observation d'échantillons modèles : métal, céramique, polymère, composite, sous forme massive, brute ou polie, de poudre et en couche mince
- Travaux pratiques sur l'un ou l'autre des appareils choisis en fonction du type d'échantillon et des informations recherchées
- Notions de microanalyse X par EDS

Programme détaillé téléchargeable ICI.
EQUIPEMENT
Tescan VEGA II (W, basse résolution, Low Vacuum) ; JEOL 6700F (HR-FEG, EDS) ; Zeiss GeminiSEM 500 (UHR-FEG, EDS, Low Vac)
INTERVENANTS
T. Dintzer, J. Faerber, C. Leuvrey, T. Ferté, V. Speisser et T. Romero (ingénieurs)
Avis des stagiaires

"Formation très bien adaptée, conforme aux attentes, même meilleure qu'attendue (les formateurs donnent des liens utiles, des conseils et des moyens d'aller plus loin). Vraiment super !" Mélanie M., Institut de recherche
"J'ai beaucoup apprécié ce stage, le fait de pouvoir maniper sur plusieurs appareils en tout petit groupe et le nombre des différents intervenants m'a été particulièrement appréciable. L'ambiance était très bonne et conviviale." Clotilde TODESCO, SAINT GOBAIN PAM TECHNOCENTRE
"Mon niveau sur cette technologie est un peu bas, mais elle m'a beaucoup apportée et me permet de comprendre les différents paramètres et résultats." Jean-Baptiste B., Ecole d'ingénieur
"Merci à tous les intervenants pour leurs remarques très constructives. Une mention spéciale pour Jacques Faerber, une mine de connaissances d'une grande pédagogie." Mame F., Laboratoire privé