Formation - Tenue au flux laser des composants optiques

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Environnement scientifique et technique de la formation

Institut Fresnel

- UMR 7249

RESPONSABLE

Laurent GALLAIS

Professeur

UMR 7249

LIEU

MARSEILLE (13)

ORGANISATION

3 jours
De 4 à 8 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

- Alternance de cours (12 h) et de travaux pratiques (8 h)
- TP en binômes avec 1 intervenant pour 2 binômes
En fin de formation, un test d'évaluation d'acquisition des connaissances sera effectué et une correction collective commentée permettra au stagiaire de se positionner sur l'atteinte des objectifs de la formation.
Des supports papier et des fichiers au format PDF seront mis à disposition du stagiaire.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1400 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

24076 : Nous consulter à cfe.contact@cnrs.fr / 01 69 82 44 55

OBJECTIFS

Connaître les effets d'une irradiation laser (continu ou impulsionnel) sur une optique en fonction du type de matériau et des paramètres du laser

Savoir évaluer les limitations de son application

Être capable d'identifier les problèmes d'endommagement laser rencontrés

Connaître les matériaux et composants résistants au flux laser

Savoir mesurer et interpréter un seuil de tenue au flux laser

Être informé des activités de recherche et des nouvelles avancées dans ce domaine de recherche

PUBLIC

Ingénieurs ou chercheurs dans les domaines de la conception de lasers / systèmes lasers, de la fabrication de composants optiques ; expérimentateurs utilisant des lasers de puissance

PRÉREQUIS

Connaissances de base dans le domaine de l'optique et des lasers

PROGRAMME

Cours (12 h)
- Mécanismes de l'interaction laser-matière et de la dégradation des matériaux sous flux
- Dégradation laser des composants optiques (surfaces optiques, cristaux, couches minces, verres...)
- Métrologie de l'endommagement laser
Travaux pratiques (8 h)
- Information et sensibilisation aux risques lasers
- Mesure de la résistance au flux laser de divers composants en régime continu, nanoseconde et femtoseconde. Les stagiaires sont invités à apporter un échantillon d'intérêt qui sera analysé à des fins pédagogiques sous réserve de l'accord préalable du responsable de la formation.
- Table ronde : identification et aide à la résolution des problèmes rencontrés par les participants

EQUIPEMENTS

Bancs de mesure de tenue au flux laser en régime subpicoseconde et nanoseconde ; outils de caractérisation d'une impulsion suivant la norme ISO (mesure de profils spatial et temporel) ; outils de caractérisation de dommages laser (microscopie optique, microscopie électronique, microscopie à force atomique, microscopie confocale, profilométrie optique) ; système de "réparation" de dommages laser sur des optiques en silice (usinage laser CO₂)

Voir le site de la plateforme d'optique de puissance de l'Institut Fresnel pour une description détaillée des équipements

INTERVENANTS

L. Gallais, F. Wagner, J.-Y. Natoli (enseignants chercheurs, Institut Fresnel), O. Utéza (chercheur, LP3), L. Lamaignère et J. Néauport (ingénieurs, CEA CESTA)

Avis des stagiaires

"Très bonne organisation et intervenants très pédagogues." Raymond P., Entreprise aéronautique

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