Formation - Couches minces et filtrage optique

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Environnement scientifique et technique de la formation

Institut Fresnel

- UMR 7249

RESPONSABLES

Julien LUMEAU

Directeur de recherche

UMR 7249

Fabien LEMARCHAND

Maître de conférences

UMR 7249

LIEU

MARSEILLE (13)

ORGANISATION

12 h
De 3 à 6 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

Liste des ressources pédagogiques remises aux participants au début de la formation : supports papier et dématérialisés.
Lors de la dernière demi-journée de la formation, l'étude de cas pratiques permettra aux stagiaires d'évaluer l'acquisition des connaissances.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1100 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATE DU STAGE

25076 : du lundi 06/10/2025 au mardi 07/10/2025 à MARSEILLE

2025

Janvier	Février	Mars	Avril
Mai	Juin	Juillet	Août
Sept	Oct 25076	Nov	Déc

OBJECTIFS

Connaitre les méthodes de conception d'un filtre à base de couches minces optiques

Connaitre les méthodes de fabrication de filtres optiques interférentiels.

Connaitre les méthodes de caractérisation de filtres optiques interférentiels.

Définir ses besoins en termes de composants de filtrage optique.

PUBLIC

Cette formation s'adresse aux personnes en charge de la définition des besoins lors du design d'un système optique nécessitant l'emploi de composants de filtrage optique. Cette formation s'adresse donc tout particulièrement aux ingénieurs et chercheurs des secteurs publics et privés travaillant dans l'optique.

PRÉREQUIS

Cette formation nécessite une bonne connaissance en optique physique, en particulier sur les interférences à ondes multiples ainsi qu'une expérience dans le domaine de la métrologie optique. Cette formation ne requiert cependant pas de connaissance a priori sur les couches minces optiques et la technologie du vide.

PROGRAMME

Cette formation à la fois théorique (30%) et expérimentale (70%) adressera les problèmes de design, fabrication et caractérisation de filtres à base de couches minces optiques. L'aspect expérimental sera réalisé sur les machines de dépôt et de caractérisation de l'Espace Photonique utilisées par l'équipe Couches Minces Optiques pour ses activités de recherche.

Jour 1 :
Matin :
- Introduction aux Couches Minces Optiques.
- Présentation des fonctions de filtrage en couches minces optiques.
- Méthodes de calculs d'empilements de couches minces optiques.
- Méthodes de synthèse de filtres à base de couches minces optiques et démonstration sur logiciel commercial.

Après-midi :
- Présentation des méthodes de dépôts physiques à base de couches minces optiques.
- Présentation des méthodes de contrôle de filtres en couches minces optiques.
- Démonstration de dépôt de filtres optiques interférentiels dans le cadre de la plateforme technologique de l'Espace Photonique.

Jour 2 :
Matin :
- Présentation des méthodes de caractérisation de filtres à base de couches minces optiques.
- Démonstration de caractérisation de filtres optiques interférentiels dans le cadre de la plateforme technologique de l'Espace Photonique.

Après-midi :
- Présentation des informations nécessaires lors de la définition des performances d'un filtre à base de couches minces optiques.
- Etude de cas : discussion des problèmes posés par les stagiaires et analyse des solutions (échanges).

EQUIPEMENTS

Machines de dépôt sous vide (évaporation assistée par plasma et/ou pulvérisation cathodique magnétron), spectrophotomètre, profilomètre optique.
Un PC portable avec la version du logiciel Optilayer sera demandée à chacun des stagiaires.

INTERVENANTS

F. Lemarchand (maître de Conférences) et J. Lumeau (directeur de recherche)

Avis des stagiaires

"Formation en petit comité très intéressante et enrichissante." Tanguy D., Centrale d'achat

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