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Formation - XPS pour la micro / opto-électronique, la chimie des surfaces et des interfaces

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Environnement scientifique et technique de la formation

Institut Lavoisier de Versailles

- UMR 8180
RESPONSABLE

Arnaud ETCHEBERRY

Directeur de recherche

UMR 8180

LIEU

VERSAILLES (78)

ORGANISATION

3 jours
De 5 à 12 stagiaires

MÉTHODES PÉDAGOGIQUES

- Alternance de cours (50 %) et de travaux dirigés (50 %)
- TP encadrés par 1 intervenant pour 5 stagiaires maximum
Tout au long de la formation, des exercices corrigés permettront au stagiaire d'évaluer son acquisition des connaissances.
Un support papier, des fichiers au format PDF et une clé USB seront mis à disposition du stagiaire.

COÛT PÉDAGOGIQUE

1500 Euros

A L'ISSUE DE LA FORMATION

Evaluation de la formation par les stagiaires
Envoi d'une attestation de formation

DATES DES SESSIONS

Les informations indiquées pour cette page sont valables pour la première session à venir.
Avant de s'inscrire à une autre session, téléchargez son programme car des modifications mineures peuvent y avoir été apportées.

24101 : du mercredi 20/11/2024 au vendredi 22/11/2024 à VERSAILLES

25108 : du mardi 04/11/2025 au jeudi 06/11/2025 à VERSAILLES

2024
Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept Oct Nov
24101		 Déc
2025
Janvier Février Mars Avril
Mai Juin Juillet Août
Sept Oct Nov
25108		 Déc
OBJECTIFS
-

Avoir les connaissances nécessaires sur l'XPS (spectroscopie de photoélectrons X) associé à l'X-AES (spectroscopie Auger) pour la conception, l'expertise et la fiabilité de composants en micro / opto-électronique


-

Connaître les capacités de l'XPS pour l'analyse chimique des surfaces et interfaces


-

Être capable d'exploiter quantitativement un spectre XPS


-

Savoir intégrer utilement l'XPS dans les parcours d'analyse associés aux caractérisations des composants aux divers stades de leur développement

PUBLICS
Ingénieurs et chercheurs impliqués dans le domaine de la conception, du développement de composants pour la micro / opto-électronique. Afin d'adapter le contenu du stage aux attentes des stagiaires, un questionnaire téléchargeable ICI devra être complété et renvoyé au moment de l'inscription.
Prérequis : connaissances en physique et chimie du solide ; connaissances en atomistique de base (Bac + 3 minimum)
PROGRAMME
1er jour
- Introduction à la spectroscopie de photoélectrons et électrons Auger excités par rayons X
- Détermination de la composition atomique, exploitation du déplacement chimique, exploitation de la distribution angulaire
- Exploitation d'un spectre général puis de spectres pris à haute résolution
- Prise en main d'un logiciel d'exploitation : travaux dirigés sur des spectres en rapport avec les surfaces de la micro ou de l'opto-électronique
2ème et 3ème jours
- Travail spécifique sur les filières matériaux pour la micro / opto-électronique, l'XPS sur Si, sur Ge, sur SiGe, sur les III-Vs (binaires, ternaires, quaternaires) et sur les II-VIs (points communs et spécificités)
- Profilage XPS et la question clé de l'accès à des interfaces enterrées
- Approche quantitative sur la réelle réactivité de ces surfaces, sur les stratégies d'ingénierie et sur l'analyse de la contamination carbonée

Il est proposé aux stagiaires d'apporter un échantillon (sous réserve de l'accord préalable du responsable) dont le spectre sera effectué pendant la formation (définition de la procédure, choix des fenêtres, etc.). Les supports d'analyse seront fournis par la bibliothèque de spectres du CEFS2. Les stagiaires auront également la possibilité d'apporter leur propre jeu de données qui sera analysé à des fins pédagogiques sous réserve de l'accord préalable du responsable de la formation.
EQUIPEMENT
Les stagiaires auront accès au centre CEFS2 (3 spectromètres XPS, 1 spectro ARXPS) ; deux spectromètres seront immobilisés pour le stage et les manipulations en temps réel qui y seront dispensées. Les supports informatiques et logiciels seront fournis pendant le stage.
INTERVENANTS
A. Etcheberry, D. Aureau, S. Béchu (chercheurs), M. Bouttemy et M. Fregnaux (ingénieurs)
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